71911 ACE/HCP4A Rolamento de Esferas de Contato Angular de Superprecisão com Alta Velocidade 25.000 rpm Esferas de Cerâmica Híbrida e Grau de Precisão P4A

• Tolerâncias muito apertadas adequadas para máquinas de precisão
• Capacidade de lidar simultaneamente com cargas radiais e axiais
• Função de alta velocidade com estabilidade
• Baixo binário e atrito para eficiência energética
• Rigididade aumentada para precisão sob cargas pesadas
• Durabilidade com vida útil prolongada
• Desempenho eficaz numa ampla gama de temperaturas

O 71911 ACE/HCP4A é um rolamento de esferas angulares de contacto de altíssima precisão concebido para aplicações que exigem extrema precisão, desempenho de alta velocidade,e operação fiável em condições exigentes.

• Espinhas de usinagem em nanoescala: utilizadas na fabricação óptica, como usinagem de lentes asféricas e cristais a laser com rugosidade de superfície até Ra < 0,05 μm
• Espinhas de moagem de ultra-alta velocidade: Ideal para cortar materiais avançados como compósitos de fibra de carbono e cerâmica a velocidades muito altas

• Os eixos principais dos motores aéreos: suportam eixos de turbina nas transmissões de helicópteros e outros sistemas que exigem uma operação de curta duração e alta velocidade
• Sistemas de controle de atitude por satélite: fornece suporte confiável para rodas de reação e acionamentos de painéis solares em naves espaciais

• Robôs colaborativos de 7 eixos: permite articulações com resposta dinâmica extremamente elevada e repetibilidade de posicionamento de ± 0,005 mm
• Robôs cirúrgicos: fornece movimento rotativo de precisão para ferramentas cirúrgicas minimamente invasivas usadas na robótica médica

• Compressores de células de combustível a hidrogénio: concebidos para eixos de impulsionadores de altíssima velocidade (> 30.000 rpm) que resistem à corrosão resultante da exposição ao hidrogénio
• Motores de ultra-alta velocidade (EV/Aviação): Suporta motores em aeronaves elétricas e veículos elétricos de alto desempenho (> 25.000 rpm)

• Máquinas de litografia ultravioleta extrema (EUV): estágios de movimento compatíveis com vácuo com precisão de nível nanométrico, críticos para a fabricação de chips
• Espinhas de polimento de wafer: assegura uma rotação suave e livre de vibrações para equipamentos de polimento mecânico químico (CMP)

• Aceleradores de radiação de síncrotron: componentes rotativos de alta precisão utilizados em câmaras de vácuo para controlo do feixe de partículas
• Microscópios de Força Atómica (AFM): fornece sistemas de rolamento ultra-estáveis para mecanismos de varredura de sondas utilizados na imagem em nanoescala